




氦質(zhì)譜檢漏儀(Helium Mass SpectrometerLeakDetector)為氣體工業(yè)名詞術語,用氦氣或者氫氣作示漏氣體,以氣體分析儀檢測氦氣而進行檢漏的質(zhì)譜儀。背壓法氦質(zhì)譜檢漏采用背壓法檢漏時,首先將被檢產(chǎn)品置于高壓的氦氣室中,浸泡數(shù)小時或數(shù)天,如果被檢產(chǎn)品表面有漏孔,氦氣便通過漏孔壓入被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封腔中,使內(nèi)部密封腔中氦分壓力上升。氦氣的本底噪聲低,分子量及粘滯系數(shù)小,因而易通過漏孔并易擴散;另外,氦系惰性氣體,不腐蝕設備,故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀(調(diào)整到僅對氦氣反應的工作狀態(tài))的被檢容器上,若容器有漏孔,則分析儀即有所反應,從而可知漏孔所在及漏氣量大小。
北京科儀真空技術有限公司專業(yè)生產(chǎn)氦質(zhì)譜檢漏儀,如您想了解更多您可撥打圖片上的電話進行咨詢!
氦質(zhì)譜檢漏技術是真空檢漏領域里不可缺少的一種技術,由于檢漏,簡便易操作,儀器反應靈敏,精度高,不易受其他氣體的干擾,在電阻爐檢漏中得到了廣泛應用。氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)質(zhì)譜學原理,用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。今天和大家分享的是真空箱氦檢漏系統(tǒng)特征及優(yōu)點,如果您想了解更多您可撥打圖片上的電話進行咨詢。由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。質(zhì)譜室里的燈絲發(fā)射出來的電子,在室內(nèi)來回地振蕩,并與室內(nèi)氣體和經(jīng)漏孔進人室內(nèi)的氦氣相互碰撞使其電離成正離子,這些氦離子在加速電場作用下進人磁場,由于洛倫茲力作用產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),形成圓弧形軌道,改變加速電壓可使不同質(zhì)量的離子通過磁場和接收縫到達接收極而被檢測。噴氦法、吸氦法是氦質(zhì)譜檢漏儀在電阻爐檢漏中常用的兩種方法。
今天和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏儀的操作方法,希望對大家有所幫助!
氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項
檢漏儀的響應時間會影響檢漏工作的速度,正常運行的儀器響應時間不大于3s。筆者實測時,在漏點處噴射氦氣5~10s后,檢漏儀就發(fā)生響應,對于如此龐大的真空系統(tǒng),其反應是相當?shù)撵`敏。
檢漏時噴槍在漏孔處停留的時間應為儀器響應時間的3倍,該時間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時間,即為兩次噴氦的較小間隔時間,當然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時間也越長。不僅靈敏度高,而且操作方便,能夠雙燈絲自動切換、自動調(diào)零、自動校準和自動量程切換。筆者根據(jù)實測經(jīng)驗,兩次噴氦的較小間隔時間控制在30s左右,即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒有反應,則可進行第二次噴氦。
清除時間在理論上與響應時間相同,但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清除時間一般要更長些。氦質(zhì)譜檢漏儀主要由質(zhì)譜室、真空系統(tǒng)組件和電子學控制元件三大部分組成。筆者測算,在測試到數(shù)量級為10-9P a ?m3/s的微漏漏點時,清除時間約須1分鐘;在測試到數(shù)量級為10-8P a ? m3/s的中漏漏點時,清除時間約須2分鐘;在測試到數(shù)量級為10-7Pa?m3/s的大漏漏點時,清除時間在3分鐘左右。
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氦質(zhì)譜檢漏儀的結(jié)構(gòu)和工作原理
氦質(zhì)譜檢漏儀是180°磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計,其基本原理是根據(jù)離子在磁場中運動時,不同質(zhì)荷比的離子具有不同的偏轉(zhuǎn)半徑來實現(xiàn)不同種類離子的分離。為適應檢漏口壓強的變化和對靈敏度要求的不同,分子泵一般采用多級構(gòu)造和幾種不同的轉(zhuǎn)速。檢漏儀主要由質(zhì)譜室、真空系統(tǒng)及電氣控制部分組成。檢漏工作時先打開抽空閥前級泵對檢漏接口抽真空,當真空度P1 優(yōu)于200 Pa 時,打開入口閥1、2,關閉抽空閥,氦氣將逆著分子泵的抽氣方向進入質(zhì)譜室中被檢測出來,此時檢漏儀的較小可檢漏率為10- 10 Pa·m3/s。前級泵繼續(xù)對檢漏接口抽真空,當P1降至20 Pa 時,入口閥2 關閉,入口閥3 打開,分子泵的高抽速用于抽空試件,檢漏儀的反應時間縮短,此時檢漏儀的較小可檢漏率為10- 12 Pa·m3/s。